GD-Profiler 2™

Horiba | Analizadores elementales, Espectrómetro GD-OES

Descubra un mundo completamente nuevo de información con el espectrómetro de emisión óptica de descarga luminosa.

El GD-Profiler 2TM proporciona un análisis rápido y simultáneo de todos los elementos de interés, incluidos los gases de nitrógeno, oxígeno, hidrógeno y cloro. Es una herramienta ideal para la caracterización de películas delgadas, gruesas y estudios de procesos.

Equipado con una fuente de RF que puede funcionar en modo pulsado para muestras frágiles, la gama de aplicaciones del GD-Profiler 2TM va desde estudios de corrosión hasta el control del proceso de recubrimiento PVD, desde el desarrollo fotovoltaico de película fina hasta el control de calidad de LED y se utiliza en Universidades, así como laboratorios de investigación industrial.

Especificaciones: El uso de una fuente RF permite el análisis de capas y materiales convencionales y no convencionalesLa óptica simultánea proporciona una cobertura espectral completa de 110 a 800 nm, incluido UV profundo para analizar H, O, C, N y ClLas rejillas holográficas grabadas con iones garantizan el mayor rendimiento y resolución de la luz para una máxima eficiencia y sensibilidadLa detección por HDD proporciona velocidad y sensibilidadMedición en línea de la profundidad del cráter y la tasa de erosión con interferómetro incorporado y patentado (DIP)El comportamiento de muestras de fácil acceso permite mucho espacio para cargar las muestrasPotente software QUANTUMTM con herramientas de redacción de informes TablerPuntero láser CenterLite para una carga de muestras precisaLa opción de monocromador disponible únicamente en Horiba proporciona la herramienta perfecta para aumentar la flexibilidad del instrumentoPara películas delgadas y gruesas, desde nanómetros hasta cientos de micrones con resolución de profundidad nanométricaNo se requiere UHVMedición de elementos incluidos H, D, O, Li, Na, C y N con detectores de alta dinámica patentadosMonocromador opcional con modo de imagen y detección dinámica alta para un registro de espectro completo y flexibilidad totalFuente de RF pulsada para funcionamiento en modos RF y RF pulsada con coincidencia automática (auto-matching)Doble bombeo diferencial de la fuente para la preparación de muestras SEMFunción de limpieza de plasma incorporadaUFS patentado para pulverización ultrarrápida de materiales poliméricos y orgánicosVarios diámetros de ánodo y accesorios para muestras con formas irregularesLos dominios de aplicaciones típicos incluyen: fotovoltaicos, metalurgia, fabricación de LED, estudios de corrosión, orgánica y microelectrónica, investigación y desarrollo de materiales, optimización de procesos de deposición, PVD, CVD, recubrimientos de plasma, automoción, baterías de Li, etc.

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Ficha Técnica

Marca	Horiba
Aplicaciones	Energía, construcción y minería
Industrias	Construcción y minería, Energía, Investigación I+D y Biotecnología
Especificaciones	El uso de una fuente RF permite el análisis de capas y materiales convencionales y no convencionales La óptica simultánea proporciona una cobertura espectral completa de 110 a 800 nm, incluido UV profundo para analizar H, O, C, N y Cl Las rejillas holográficas grabadas con iones garantizan el mayor rendimiento y resolución de la luz para una máxima eficiencia y sensibilidad La detección por HDD proporciona velocidad y sensibilidad Medición en línea de la profundidad del cráter y la tasa de erosión con interferómetro incorporado y patentado (DIP) El comportamiento de muestras de fácil acceso permite mucho espacio para cargar las muestras Potente software QUANTUMTM con herramientas de redacción de informes Tabler Puntero láser CenterLite para una carga de muestras precisa La opción de monocromador disponible únicamente en Horiba proporciona la herramienta perfecta para aumentar la flexibilidad del instrumento Para películas delgadas y gruesas, desde nanómetros hasta cientos de micrones con resolución de profundidad nanométrica No se requiere UHV Medición de elementos incluidos H, D, O, Li, Na, C y N con detectores de alta dinámica patentados Monocromador opcional con modo de imagen y detección dinámica alta para un registro de espectro completo y flexibilidad total Fuente de RF pulsada para funcionamiento en modos RF y RF pulsada con coincidencia automática (auto-matching) Doble bombeo diferencial de la fuente para la preparación de muestras SEM Función de limpieza de plasma incorporada UFS patentado para pulverización ultrarrápida de materiales poliméricos y orgánicos Varios diámetros de ánodo y accesorios para muestras con formas irregulares Los dominios de aplicaciones típicos incluyen: fotovoltaicos, metalurgia, fabricación de LED, estudios de corrosión, orgánica y microelectrónica, investigación y desarrollo de materiales, optimización de procesos de deposición, PVD, CVD, recubrimientos de plasma, automoción, baterías de Li, etc.