UVISEL Plus
elipsómetro espectroscópico más versátil para mediciones de espesor de película delgada y constantes ópticas en los campos de investigación y procesamiento de materiales
El UVISEL Plus con su tecnología FastAcq, es el elipsómetro espectroscópico más versátil para mediciones de espesor de película delgada y constantes ópticas en los campos de investigación y procesamiento de materiales, pantallas planas, microelectrónica y fotovoltaica.
Incluye la tecnología de adquisición más reciente diseñada para medir más rápido y con mayor precisión. FastAcq, la tecnología de adquisición más nueva, se basa en doble modulación, diseñada para la caracterización de películas delgadas. Basada en un nuevo monocromador electrónico, de procesamiento de datos y de alta velocidad, la nueva tecnología FastAcq permite completar una medición de muestra de 190 a 2100 nm en 3 minutos, en alta resolución. Fundamentado en la tecnología de modulación de fase, la cual caracteriza cambios en la polarización a alta frecuencia (50 kHz), entrega datos de alta calidad en todo rango espectral en términos de alta precisión, mediciones de alta resolución, excelente relación señal-ruido y la caracterización de capas gruesas de hasta 50 µm.
- Mediciones de alta precisión para todos los valores de (Ψ,Δ)
- Velocidad de adquisición de datos muy rápida de hasta 50 ms/punto, ideal para estudios cinéticos y mediciones in situ en tiempo real.
La medición y caracterización de muestras transparentes con reflejos en la parte posterior es simple y precisa, no requiere rayar la parte posterior. Diseñado para una mayor flexibilidad para mediciones de películas delgadas, UVISEL Plus ofrece micropuntos para muestras modeladas, ángulo variable, etapa de mapeo automático y una variedad de accesorios, lo que lo hace escalable para satisfacer todas sus necesidades de aplicación y presupuesto. El diseño modular del UVISEL Plus permite su uso como herramienta de metrología de mesa o para integración in situ en cámaras de procesos.
El UVISEL Plus se considera un elipsómetro de referencia para ciencia de materiales más avanzada.
- Especificaciones: Detección monocromador de alta resolución acoplado a detectores sensibles Máxima precisión y sensibilidad Diseño modular Rango espectral de 190 a 885 nm con opción de extensión de NIR hasta 2100 nm Paquete de software totalmente integrado para medición, modelado y operaciones automáticas Se puede obtener información como Espesor de película delgada de 1 Å a 50 µm Rugosidad de la superficie y la interfaz Constantes ópticas (n,k) para películas isotrópicas, anisotrópicas y graduadas Coeficiente de absorción α, banda prohibida óptica Propiedades del material como composición de aleación compuesta, porosidad, cristalinidad, morfología y más Matriz de mueller Despolarización Configuración Manual Tamaño del punto: 0,05-0,1 mm (orificio) Platina de muestra: 150 mm, altura manual (20 mm) y ajuste de la inclinación Goniómetro: Ángulo ajustable manualmente de 55° a 90° en intervalos de 5° Configuración Automático Platina de muestra automática: XY de 200x200 mm, 300x300 mm, ajuste manual de altura (4 mm) e inclinación. Goniómetro automático: Ángulo ajustable automáticamente de 45° a 90° en intervalos de 0,01° Goniómetro Integrado Ángulo de incidencia manual: 35° a 90° en intervalos de 5° Porta muestras: 150 mm, 20 mm ajuste manual de altura z Sistema de auto colimación para alineación de muestras Ancho/Altura/Profundidad, 25/35/21 cm Opcionales Accesorios: celda de temperatura controlada, celda de líquido, celda electroquímica, módulo de reflectometría para medir la reflectancia con una incidencia de 0° y más Visión: cámara CCD Precisión: Ψ= 45°±0,01° y Δ=0°±0,01° medidos en configuración de aire directo 1,5 – 5,3 eV Repetibilidad: NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 nm): d ± 0,1 % – n(632,8 nm) ± 0,0001
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Ficha Técnica
| Marca | |
|---|---|
| Aplicaciones | |
| Industrias | Construcción y minería, Energía, Investigación I+D y Biotecnología |
| Especificaciones | Detección monocromador de alta resolución acoplado a detectores sensibles Máxima precisión y sensibilidad Diseño modular Rango espectral de 190 a 885 nm con opción de extensión de NIR hasta 2100 nm Paquete de software totalmente integrado para medición, modelado y operaciones automáticas Se puede obtener información como Espesor de película delgada de 1 Å a 50 µm Rugosidad de la superficie y la interfaz Constantes ópticas (n,k) para películas isotrópicas, anisotrópicas y graduadas Coeficiente de absorción α, banda prohibida óptica Propiedades del material como composición de aleación compuesta, porosidad, cristalinidad, morfología y más Matriz de mueller Despolarización Configuración Manual Tamaño del punto: 0,05-0,1 mm (orificio) Platina de muestra: 150 mm, altura manual (20 mm) y ajuste de la inclinación Goniómetro: Ángulo ajustable manualmente de 55° a 90° en intervalos de 5° Configuración Automático Platina de muestra automática: XY de 200×200 mm, 300×300 mm, ajuste manual de altura (4 mm) e inclinación. Goniómetro automático: Ángulo ajustable automáticamente de 45° a 90° en intervalos de 0,01° Goniómetro Integrado Ángulo de incidencia manual: 35° a 90° en intervalos de 5° Porta muestras: 150 mm, 20 mm ajuste manual de altura z Sistema de auto colimación para alineación de muestras Ancho/Altura/Profundidad, 25/35/21 cm Opcionales Accesorios: celda de temperatura controlada, celda de líquido, celda electroquímica, módulo de reflectometría para medir la reflectancia con una incidencia de 0° y más Visión: cámara CCD Precisión: Ψ= 45°±0,01° y Δ=0°±0,01° medidos en configuración de aire directo 1,5 – 5,3 eV Repetibilidad: NIST 1000Å SiO2/Si (190-2100 nm): d ± 0,1 % – n(632,8 nm) ± 0,0001 |
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